Большая Советская Энциклопедия (ЭЛ)
ModernLib.Net / Энциклопедии / БСЭ / Большая Советская Энциклопедия (ЭЛ) - Чтение
(стр. 21)
Автор:
|
БСЭ |
Жанр:
|
Энциклопедии |
-
Читать книгу полностью
(2,00 Мб)
- Скачать в формате fb2
(8,00 Мб)
- Скачать в формате doc
(1 Кб)
- Скачать в формате txt
(1 Кб)
- Скачать в формате html
(8,00 Мб)
- Страницы:
1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41
|
|
Поэтому для ионов переходных металлов с большим вкладом орбитального момента линию ЭПР удаётся наблюдать только при низких температурах. Спектры ЭПР наблюдают при достаточно малой мощности переменного электромагнитного поля (10
-2-10
-3
вт)
,когда установившееся состояние мало отличается от равновесного. Если мощность велика и релаксационные процессы не в состоянии восстановить равновесное распределение, то
выравниваются и наступает насыщение, обнаруживаемое по уменьшению поглощения (см.
)
.Эффект насыщения уровней используется для измерения времён парамагнитной релаксации.
Экспериментальные методы. ЭПР наблюдается в диапазоне СВЧ. Интенсивность поглощения энергии увеличивается с ростом частоты, т. к. в соответствии с (3) при этом увеличивается различие в населённости уровней. Достаточно высокая чувствительность метода достигается на частоте v = 9000
Мгц.Это соответствует
Н= 3200
э(величина магнитного поля, легко получаемая в лабораторных условиях). Использование мощных электромагнитов и сверхпроводящих соленоидов позволяет работать на частотах вплоть до n
=150000
Мгц(длина волны l
= 2 мм)
.
Для измерения поглощения используют радиоспектрометры (спектрометры ЭПР), в которых при постоянной частоте и медленном изменении внешнего магнитного поля регистрируется изменение поглощаемой в образце мощности. В спектрометрах ЭПР прямого усиления высокочастотные колебания от
по волноводному тракту подаются в
(полость размером ~ l), помещенный между полюсами электромагнита. Прошедшие через резонатор или отражённые от него электромагнитные волны попадают на кристаллический детектор. Изменение поглощаемой в образце мощности регистрируется по изменению тока детектора. Для повышения чувствительности спектрометра внешнее магнитное поле модулируют с частотой 30
гц- 1
Мгц.При наличии в образце поглощения прошедшие или отражённые от резонатора СВЧ-волны также оказываются промодулированными. Промодулированный сигнал усиливается, детектируется и подаётся на регистрирующее устройство (осциллограф или самописец). При этом записываемый сигнал имеет форму производной от кривой поглощения (
рис. 4
). Чувствительность спектрометра ЭПР определяется уровнем тепловых шумов усилителя. В супергетеродинных спектрометрах на детектор подаётся мощность от дополнительного клистрона. Частота колебаний, генерируемых этим клистроном, отличается от частоты сигнального клистрона. Сигнал с детектора усиливается на разностной частоте 30-100
Мгц.
Применение метода ЭПР. Наиболее хорошо изучены спектры ЭПР ионов переходных металлов. Для того чтобы устранить уширение линии, обусловленное дипольным взаимодействием с соседними парамагнитными ионами, измерения проводят на монокристаллах, являющихся диамагнитными диэлектриками, куда в качестве примесей (0,001%-0,1%) вводят парамагнитные ионы. Влияние окружающих ионов на парамагнитный ион рассматривают как действие точечных электрических зарядов. ЭПР наблюдают на заселённых нижних энергетических уровнях парамагнитного иона, получающихся в результате расщепления основного уровня электрическим полем окружающих зарядов (см.
)
.В случае ионов редкоземельных элементов кристаллическое поле оказывается слабым по сравнению с взаимодействием электронов иона, т. к. парамагнетизм этих ионов обусловлен глубоко лежащими 4
f-электронами. Момент количества движения иона определяется суммой орбитального и спинового моментов основного уровня. В кристаллическом поле уровни с разной абсолютной величиной проекции полного магнитного момента не эквивалентны по энергии. Для ионов группы Fe, парамагнетизм которых обусловлен 3 d-электронами, кристаллическое поле оказывается сильнее спин-орбитального взаимодействия, определяющего энергетический спектр свободного иона. В результате максимальная величина проекции орбитального момента либо уменьшается, либо становится равной нулю. Принято говорить, что происходит частичное или полное «замораживание» орбитального момента.
Симметрия кристаллического поля определяет симметрию
g-фактора, а напряжённость кристаллического поля определяет его величину. Поэтому изучение
g-фактора парамагнитных ионов позволяет исследовать кристаллические поля. По спектрам ЭПР можно определить также заряд парамагнитного иона, симметрию окружающих его ионов, что в сочетании с данными
даёт возможность определить расположение парамагнитного иона в кристаллической решётке. Знание энергетических уровней парамагнитного иона позволяет сравнивать результаты ЭПР с данными оптических спектров и вычислять магнитные восприимчивости парамагнетиков.
Метод ЭПР широко применяется в химии. В процессе химических реакций или под действием
могут образовываться молекулы, у которых хотя бы один электрон не спарен (незаполненная химическая связь). Эти молекулы, называются свободными радикалами, относительно устойчивы и обладают повышенной химической активностью. Их роль в кинетике химических реакций велика, а метод ЭПР - один из важнейших методов их исследования;
g-фактор свободных радикалов обычно близок к значению
g
S
,а ширина линии мала. Из-за этих качеств один из наиболее устойчивых свободных радикалов (a-дифинил-b -пикрилгидразил), у которого
g =2,0036, используется как стандарт при измерениях ЭПР.
Изучение локализованных неспаренных электронов исключительно важно для исследования механизмов повреждения биологической ткани, образования промежуточных молекулярных форм в ферментативном или другом
.Поэтому метод ЭПР интенсивно используется в биологии, где с его помощью изучаются ферменты, свободные радикалы в биологических системах и
.
В кристаллах делокализованные электроны и дырки могут захватываться дефектами и примесями, практически неизбежными в кристаллической решётке. Очень часто эти центры определяют окраску кристаллов (см.
)
.Метод ЭПР позволяет по расположению неспаренных электронов определить природу и локализацию центров окраски. В полупроводниках удаётся наблюдать ЭПР, вызываемый электронами, связанными на донорах.
В
и
наряду с
,обусловленным изменением орбитального движения электронов проводимости под действием переменного электрического поля СВЧ, возможен ЭПР, связанный с изменением ориентации спинов электронов проводимости. Наблюдение ЭПР на электронах проводимости затруднительно, т. к.: 1) доля неспаренных электронов проводимости мала (
~kT/E
F,где
E
F-Ферми энергия); 2) из-за
глубина проникновения электромагнитного поля в диапазоне СВЧ чрезвычайно мала (~ 10
-3-10
-6
см); 3) форма линии поглощения сильно искажена из-за скин-эффекта и диффузии электронов.
ЭПР наблюдается в растворах и стеклах, содержащих ионы переходных металлов. Это позволяет судить о заряде парамагнитных ионов, строении сольватных оболочек и т. п. Спектр ЭПР в газах (O
2, NO, NO
2) сложнее, что связано со спино-орбитальным взаимодействием, вращательным движением молекул и влиянием ядерного спина.
Лит.:Альтшулер С. А., Козырев Б. М., Электронный парамагнитный резонанс соединений элементов промежуточных групп, 2 изд., М., 1972; Абрагам А., Блини Б., Электронный парамагнитный резонанс переходных ионов, пер. с англ., т. 1-2, М., 1972-73; Пейк Д. Э., Парамагнитный резонанс, пер. с англ., М., 1965; Бальхаузен К., Введение в теорию поля лигандов, пер. с англ., М., 1964; Эткинс П., Саймоне М., Спектры ЭПР и строение неорганических радикалов, пер. с англ., М., 1970; Инграм Д., Электронный парамагнитный резонанс в свободных радикалах, пер. с англ., М., 1961; Ингрэм Д., Электронный парамагнитный резонанс в биологии, пер. с англ., М., 1972; Людвиг Дж., Вудбери Г., Электронный спиновой резонанс в полупроводниках, пер. с англ., М., 1964.
В. Ф. Мещеряков.
Рис. 1. Изменение угла q прецессии магнитного момента m с частотой n1 = gH
1/2p в системе координат
охуz, вращающейся вместе с полем H
1вокруг направления Н с частотой n = gH
1/2p.
Рис. 3. а - тонкая структура спектра ЭПР. Для случая S = 1 наблюдаются две линии поглощения в результате расщепления уровней при Н = 0; б - сверхтонкая структура спектра ЭПР.
Рис. 2. При hv = g?H происходит резонансное поглощение энергии переменного электромагнитного поля.
Рис. 4. Спектр ЭПР иона Mn2+ в кристалле метасиликата. Видны 5 групп линий тонкой структуры, соответствующих спину иона Mn2+ S = 5/2. Каждая группа состоит из 6 линий сверхтонкой структуры, обусловленной взаимодействием с ядерным спином I = 5/2.
Электронный проектор
Электро'нный прое'ктор,автоэлектронный микроскоп, безлинзовый электроннооптический прибор для получения увеличенного в 10
5-10
6раз изображения поверхности твёрдого тела. Э. п. был изобретён в 1936 немецким физиком Э. Мюллером. Основные части Э. п.: катод в виде острия с радиусом кривизны кончика ~10
-7-10
-8
м;стеклянная сферическая или конусообразная колба, дно которой покрыто слоем люминофора; и анод в виде проводящего слоя на стенках колбы или проволочного кольца, окружающего катод. При прогреве острия его кончик становится монокристаллическим и приобретает округлённую форму. Колба вакуумируется (остаточное давление ~10
-9-10
-11
мм рт. ст.)
.Когда на анод подают положительное напряжение в несколько тыс. вольт относительно расположенного в центре колбы катода-острия,
в непосредственной близости от кончика острия достигает 10
-7-10
-8
в/см.Это обеспечивает интенсивную автоэлектронную эмиссию (см.
)
с кончика катода. Электроны, ускоряясь в радиальных (относительно кончика) направлениях, бомбардируя экран и вызывая свечение люминофора, создают на экране увеличенное изображение поверхности катода, отражающее симметрию кристаллической структуры острия (см.
рис.
)
.Увеличение в Э. п. равно отношению
R/b
r,где
R -расстояние катод - экран,
r -радиус кривизны острия, b - фактор, характеризующий отклонение формы эквипотенциальных поверхностей электрического поля от сферической.
Э. п. ограничивают наличие тангенциальных составляющих скоростей автоэлектронов у кончика острия и (в меньшей степени) явление дифракции электронов. Предел разрешения Э. п. составляет (2-3)Ч10
-7
см.
Э. п. применяется для изучения автоэлектронной эмиссии металлов и полупроводников, определения
с разных граней монокристалла и пр. Для наблюдения
,изучения
атомов различных веществ на металлической или полупроводниковой поверхности и т. д. Э. п. используют весьма ограниченно, т. к. намного большие возможности в этих отношениях даёт применение ионного проектора.
Рис. 2a. Изображения поверхности вольфрамового острия радиусом 950 Е при увеличении в 10
6раз в электронном проекторе (а). На изображении можно видеть только структуру кристаллических плоскостей.
Рис. 2б. Изображения поверхности вольфрамового острия радиусом 950 Е при увеличении в 10
6раз в гелиевом ионном проекторе (б) при температуре 22 К. С помощью ионного проектора за счёт разрешения отдельных атомов (светлые точки на кольцах) можно различить бисерно-цепочечную структуру ступеней кристалической решётки.
Электронный прожектор
Электро'нный проже'ктор,см. в ст.
.
Электронный телескоп
Электро'нный телеско'п,редко применяемое в астрономии название телескопа, в котором приёмником радиации служит прибор фотоэлектронного изображения, например
.
Электронный умножитель
Электро'нный умно'жи'тель(ЭУ), электронное устройство для усиления потока электронов на основе
.ЭУ либо входит в состав некоторых электровакуумных приборов (
,
,ряда передающих телевизионных трубок-
,
и
др., а также приёмно-усилительных ламп) либо используется как самостоятельный прибор - приёмник электромагнитного излучения (в диапазоне длин волн l 0,1- 150
нм) или частиц (электронов с энергиями до нескольких десятков
кэв,ионов или нейтральных частиц с энергиями до нескольких
Мэв)
.Такие приёмники, обычно выполняемые с незащищенным (открытым) входным окном, называются ЭУ открытого типа. Их используют в установках, работающих в условиях естественного вакуума (при космических исследованиях), и в высоковакуумных измерит. устройствах (сканирующих
,
,
)
.
Различают ЭУ следующих основных типов: умножительные системы на дискретных электродах - динодах: канальные ЭУ (КЭУ) на непрерывных динодах с распределённым сопротивлением; системы из множества параллельных КЭУ, выполненные на основе т. н. микроканальных плат (МКП). В 60-х гг. 20 в. разработаны вакуумно-полупроводниковые («гибридные») ЭУ, в которых используется эффект размножения электронов в
при бомбардировке полупроводниковых кристаллов, содержащих такие переходы, электронами с энергиями, достаточными для образования в кристалле парных зарядов электрон - дырка.
В ЭУ на дискретных. динодах (см.
рис.
) электроны, ускоренные и сфокусированные электростатическим (иногда магнитостатическим) полем, ударяются о поверхность динодов, вызывая вторичную электронную эмиссию (коэффициент вторичной эмиссии s » 3-30). КЭУ (см.
рис.
) представляют собой трубку (канал) из стекла с высоким содержанием свинца либо из керамики - прямую или изогнутую. К трубке прикладывают напряжение в несколько
кв,в результате в её полости возникает электростатическое поле. Под действием этого поля попавшие в канал электроны ускоряются и, соударяясь со стенками, вызывают вторичную электронную эмиссию (s » 2). Число актов размножения вторичных электронов и общий коэффициент усиления КЭУ зависят от напряжения, длины трубки, её внутреннего диаметра (например, при длине трубки 20-75
мм,внутреннем диаметре 0,5-1,5
ммкоэффициент усиления достигает 10
5у прямых КЭУ и 10
7у изогнутых). ЭУ на МКП представляет собой стеклянную пластину, пронизанную множеством (10
4- 10
6) параллельных отверстий (каналов) диаметром 10-150
мкм,образующих сотовую структуру; коэффициент усиления 10
4- 10
6.
Одно из специфических требований, предъявляемых к ЭУ с открытым входом, - способность сохранять рабочие параметры при соприкосновении его эмитирующих поверхностей с воздухом. Этому способствуют защитные свойства тонкой (2,5-5
нм) окисной эмиссионной плёнки (BeO, Al
2O
3). Катод ЭУ с открытым входом (располагается во входной части) - обычно сплавной (CuBe, AgMgO). Эффективность катода оценивают числом эмиттируемых им электронов в расчёте на 100 квантов падающего электромагнитного излучения (квантовая эффективность) либо в расчёте на 1 бомбардирующую частицу (коэффициент вырывания). Квантовая эффективность для излучения с l
=70
нмсоставляет около 20 (спадая до 0,1 при l
=200
нм)
,для мягкого рентгеновского излучения - примерно 1-5. Коэффициент вырывания, например для катодов на основе AgMgO, растет с увеличением энергии ионов в диапазоне 2-10
кэвприблизительно от 1 до 5; при дальнейшем росте энергии наступает насыщение.
Лит.:Тютиков А. М., Электронные умножители открытого типа, «Успехи физических наук», 1970, т. 100, в. 3; Берковский А. Г., Гаванин В. А., 3айдель И. Н., Вакуумные фотоэлектронные приборы, М., 1976.
В. А. Гаванин.
Размножение электронов в канальном электронном умножителе: знаками + и - обозначены полярности приложенного к каналу напряжения; стрелками показаны траектории электронов.
Структурные схемы фотоэлектронных умножителей (ФЭУ) с линейными динодными системами: а - с корытообразными динодами; б - с жалюзийными динодами; Ф - световой поток; К - фотокатод; В - фокусирующие электроды катодной (входной) камеры; Э - диноды; А - анод; штрихпунктирными линиями изображены траектории электронов.
Электронных вычислительных машин единая система
Электро'нных вычисли'тельных маши'н еди'ная систе'ма(ЕС ЭВМ), комплекс стационарных
третьего поколения (на интегральных микросхемах) с широким диапазоном производительности (от десятков тысяч до нескольких млн. операций в 1
сек). Разработка и серийное производство ЕС ЭВМ осуществлены совместно специалистами НРБ, ВНР, ГДР, ПНР, СССР и ЧССР.
Для ЕС ЭВМ характерны программная совместимость (возможность выполнения программы, составленной для одной модели ЕС ЭВМ, на др. моделях системы), расширенная номенклатура периферийных устройств и развитая система
.Программная совместимость достигается единством принципов построения всех ЭВМ, общей системой кодирования данных и единым составом инструкций; это позволяет иметь общую операционную систему и составлять программы, не ориентированные на конкретную ЭВМ системы. Аппаратные и программные средства обеспечивают работу ЭВМ в режимах мультипрограммном, пакетной обработки, реального масштаба времени, диалоговом, с разделением времени, а также в режиме «запрос - ответ ».
Все ЭВМ единой системы построены по модульному принципу на основе стандартной системы связей между устройствами. Такое конструктивное решение обеспечивает однородность и преемственность технических средств ЕС ЭВМ, позволяет создавать вычислительные системы различной конфигурации с изменением её в процессе эксплуатации, повышать производительность путём замены центрального
другим процессором из набора ЕС ЭВМ, расширять объём оперативной памяти и состав периферийных устройств.
ЕС ЭВМ постоянно совершенствуется и развивается; в 1977-78 в стадии разработки и освоения находятся ещё 6 ЭВМ: ЕС-1015, ЕС-1025, ЕС-1035, ЕС-1045, ЕС-1055, ЕС-1065.
Ядром каждой ЭВМ является процессор, состоящий из центрального устройства управления (ЦУУ), арифметико-логического устройства (АЛУ) и оперативного запоминающего устройства (ОЗУ) (конструктивно ОЗУ может либо входить в состав процессора либо представлять собой самостоятельное устройство). Процессоры имеют систему прерываний программы и позволяют осуществлять многопрограммную работу ЭВМ, а также совместную работу периферийных устройств. Обмен данными между процессором и периферийными устройствами производится через селекторные и мультиплексные каналы. Сопряжение устройств управления с каналами обеспечивается стандартной системой связей с унифицированными конструктивными и логическими элементами и стандартизованными сигналами.
В состав периферийного оборудования входят запоминающие устройства: на магнитных барабанах (ёмкостью 2 и 16 Мбайт), на постоянных (несменяемых) магнитных дисках (100 Мбайт), со сменными пакетами магнитных дисков (7,25 и 29 Мбайт), на магнитных лентах (20-40 Мбайт) и на магнитных картах (125 Мбайт); устройства ввода - вывода данных: на перфолентах (скорость ввода 1000 и 1500 строк в
сек,вывода - 100, 150, 200 строк в
сек)
,на перфокартах (ввод - 500, 1000, 1500, 2000 карт в
мин,вывод- 100, 250 карт в
мин)
;алфавитно-цифровые печатающие устройства (скорость печати 600, 900 и 1100 строк в
мин)
,планшетные и рулонные графопостроители; устройства непосредственной связи человека-оператора с ЭВМ (алфавитно-цифровые и графические дисплеи, электрические пишущие машины). Отдельную группу составляют устройства подготовки данных.
Для создания вычислительных систем коллективного пользования (см.
) в составе ЕС ЭВМ имеются средства телеобработки данных, в том числе аппаратура
(модемы, устройства защиты от ошибок, вызывные устройства), устройства сопряжения каналов с аппаратурой передачи данных, абонентские пункты (
)
,оснащенные устройствами ввода - вывода информации и её отображения. Программное обеспечение ЕС ЭВМ реализуется в виде операционных систем, которые обеспечивают эффективное функционирование ЭВМ независимо от её конфигурации и характера решаемых задач, управляют прохождением заданий, повышают производительность ЭВМ за счёт реализации различных режимов её работы (например, мультипрограммного), распределяют вычислительные ресурсы между выполняемыми программами, контролируют работу технических средств. На основе ЕС ЭВМ можно создавать многопроцессорные н многомашинные комплексы для решения разнообразных задач в области организации, управления, планирования и учёта, обработки и анализа больших массивов информации, научных, технических и инженерных расчётов и т. д.
Основные характеристики ЭВМ единой системы
Параметры ЭВМ |
Тип ЭВМ, страна-изготовитель, год разработки |
ЕС-1010 |
ЕС-1020 |
ЕС-1021 |
ЕС-1030 |
ЕС-1040 |
ЕС-1050 |
ЕС-1022 |
ЕС-1032 |
ЕС-1033 |
ЕС-1060 |
ВНР, 1972 |
СССР, 1971 |
ЧССР, 1972 |
СССР, ПНР, 1971 |
ГДР, 1971 |
СССР, 1972 |
СССР, 1975 |
ПНР, 1975 |
СССР, 1977 |
СССР, 1977 |
Процессор: |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
производительность, тыс. операций в 1
сек |
10 |
20 |
40 |
100 |
350 |
500 |
80 |
200 |
200 |
2000 |
разрядность |
18 |
8 |
64 |
32 |
64 |
64 |
8 |
32 |
32 |
64 |
Оперативная память: |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ёмкость, кбайт |
8-64 |
64-256 |
16-64 |
256-512 |
128-1024 |
256-1024 |
128-512 |
128-1054 |
512-1024 |
2048-8192 |
цикл обращения,
мксек |
1,0 |
2,0 |
2 |
1,25 |
1,00 |
1,25 |
2 |
1,2 |
1,25 |
0,65 |
Селекторные каналы: |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
количество |
1 |
2 |
2 |
3 |
6 |
6 |
2 |
3 |
3 |
2 |
скорость передачи, кбайт
/сек |
200 |
800 |
250 |
800 |
1250 |
1250 |
500 |
1100 |
800 |
1300 |
Мультиплексный канал: скорость передачи, кбайт
/сек: |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
монопольный режим |
200 |
100 |
220 |
300 |
670 |
670 |
300 |
470 |
350 |
670 |
мультиплексный режим |
30 |
16 |
35 |
40 |
110 |
110 |
40 |
145 |
70 |
110 |
число разделённых подканалов |
135 |
128 |
128 |
128 |
192 |
192 |
128 |
196 |
256 |
224 |
Потребляемая мощность,
ква |
12 |
21 |
13 |
27 |
60 |
100 |
25 |
23 |
25 |
80 |
Лит.:Шелихов А. А., Селиванов Ю. П., Вычислительные машины, М., 1973; Единая система ЭВМ, под ред. А. М. Ларионова, М., 1974; Система документации единой системы ЭВМ, под ред. А. М. Ларионова, М., 1975.
В. Н. Квасницкий.
Электронограф
Электроно'граф,прибор для исследования атомного строения твёрдых тел и газовых молекул с помощью дифракции электронов (см.
)
.Э. - вакуумный прибор, его схема аналогична схеме
.В колонне, основном узле Э., электроны, испускаемые катодом - раскалённой вольфрамовой нитью, разгоняются высоким напряжением (20-1000
кв -быстрые электроны и до 1
кв- медленные электроны). С помощью диафрагм и магнитных линз формируется узкий электронный пучок, который направляется в камеру объектов на исследуемый образец, установленный на специальном столике. Рассеянные электроны попадают в фотокамеру и на фотопластинке (или экране) создаётся дифракционная картина (электронограмма), которую можно рассматривать как визуально, так и с помощью вмонтированного в Э. микроскопа. Э. снабжают различными устройствами для нагревания, охлаждения, испарения образца, для его деформации и т. д.
Э. включает в себя также вакуумную систему и блок электропитания, который содержит источники накала катода, высокого напряжения, питания электромагнитных линз и различных устройств, расположенных в камере объектов. Питающее устройство обеспечивает изменение ускоряющего напряжения по ступеням (например, в Э. «ЭР-100» 4 ступени: 25, 50, 75 и 100
кв). Разрешающая способность Э. составляет тысячные доли ъ и зависит от энергии электронов, сечения электронного пучка и расстояния от образца до экрана, которое в современных Э. может изменяться в пределах 200-600
мм.В конструкции Э. предусмотрена система непосредственной регистрации интенсивности рассеянных электронов с помощью цилиндра Фарадея или вторичного электронного умножителя открытого типа.
В приборе, предназначенном для исследования дифракции медленных электронов, требуется поддерживать в колонне вакуум 10
-8-10
-9
мм рт. ст.
Лит.:Кушнир Ю. М., Алексеев Н. В., Левкин Н. П., Современные электронографы, «Приборы и техника эксперимента», 1967, № 1; Дворянкин В. Ф., Митягин А. Ю., Дифракция медленных электронов - метод исследования атомной структуры поверхностей, «Кристаллография», 1967, т. 12, в. 6. См. также лит. к ст.
.
Р. М. Имамов.
Электронография
Электроногра'фия(от
и
)
,метод изучения структуры вещества, основанный на рассеянии ускоренных электронов исследуемым образцом. Применяется для изучения атомной структуры кристаллов, аморфных тел и жидкостей, молекул в газах и парах. Физическая основа Э. - дифракция электронов (см.
); при прохождении через вещество электроны, обладающие волновыми свойствами (см.
), взаимодействуют с атомами, в результате чего образуются отдельные дифрагированные пучки. Интенсивности и пространственное распределение этих пучков находятся в строгом соответствии с атомной структурой образца, размерами и ориентацией отдельных кристалликов и другими структурными параметрами. Рассеяние электронов в веществе определяется электростатическим потенциалом атомов, максимумы которого в кристалле отвечают положениям атомных ядер.
Электронографические исследования проводятся в специальных приборах -
и
;в условиях вакуума в них электроны ускоряются электрическим полем, фокусируются в узкий светосильный пучок, а образующиеся после прохождения через образец пучки либо фотографируются (электронограммы), либо регистрируются фотоэлектрическим устройством. В зависимости от величины электрического напряжения, ускоряющего электроны, различают дифракцию быстрых электронов (напряжение от 30-50
кэвдо 1000
кэви более) и дифракцию медленных электронов (напряжение от нескольких
вдо сотен
в)
.
Э. принадлежит к дифракционным структурным методам (наряду с
и
) и обладает рядом особенностей. Благодаря несравнимо более сильному взаимодействию электронов с веществом, а также возможности создания светосильного пучка в электронографе, экспозиция для получения электронограмм обычно составляет около секунды, что позволяет исследовать структурные превращения, кристаллизацию и т. д. С другой стороны, сильное взаимодействие электронов с веществом ограничивает допустимую толщину просвечиваемых образцов десятыми долями
мкм(при напряжении 1000-2000
кэвмаксимальная толщина несколько
мкм)
.
Э
.позволила изучать атомные структуры огромного числа веществ, существующих лишь в мелкокристаллическом состоянии. Она обладает также преимуществом перед рентгеновским структурным анализом в определении положения лёгких атомов в присутствии тяжёлых (методам нейтронографии доступны такие исследования, но лишь для кристаллов значительно больших размеров, чем для исследуемых в Э.).
Вид получаемых электронограмм зависит от характера исследуемых объектов. Электронограммы от плёнок, состоящих из кристалликов с достаточно точной взаимной ориентацией или тонких монокристаллических пластинок, образованы точками или пятнами (рефлексами) с правильным взаимным расположением.
Страницы: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41
|
|